国外科研人员研发异质结构人工突触元件

韩国科学技术研究院（KIST）人工大脑融合研究所、韩国科学技术院（KAIST）及韩国化学研究院联合研究团队成功研发新二维绝缘体物质合成技术，制作出高性能人工突触元件。